0041-75950 — componente industrial da AMAT para reposição industrial
O 0041-75950 da AMAT é um componente industrial usado em manutenção e reposição industrial. Conteúdo em pt-BR para compra técnica, compatibilidade e cotação rápida.
Especificações técnicas
| AMAT 0041-75950 | é um Chemical Vapor Deposition (CVD) reactor, designed as a temperature-controlled heating or cooling reactor for thin-film deposition. It is used to deposit conformal and uniform films on various substrates. The reactor consists of a reaction chamber enclosed in a vacuum-sealed container, allowing precise thermal control and efficient material transfer. This equipment operates within a temperature range from room temperature to 1000°C, enabling the deposition of a variety of thin-film materials. |
|---|---|
| Modelo | 0041-75950 |
| Fabricante | AMAT |
| Tipo | Chemical Vapor Deposition (CVD) Reactor |
| Temperature Range | Room temperature to 1000°C |
| Compatible Substrates | Silicon, sapphire, quartz, glass |
| Deposition Materials | Silicon nitride, silicon dioxide, aluminum nitride, and more |
| Heating Methods | Electron bombardment, induction heating, and other sources |
| Temperature-Controlled Chamber | The reaction chamber is designed for precise thermal control, supporting both heating and cooling functionalities for optimal film deposition. |
| Gas Control System | A gas control unit delivers an accurate amount of gas to the reaction chamber during the deposition process, ensuring precise control over the thin film's quality. |
| Deposition Source | The deposition source provides a controlled supply of material to the reaction chamber, where it is deposited onto the substrate. |
| Versatile Heating Sensors | The reactor is equipped with heated or cooled magnetic sensors, capable of using various heating methods such as electron bombardment and induction heating. |
| Multiple Material Compatibility | The reactor is designed to deposit films on a wide range of substrates, including silicon, sapphire, quartz, and glass. |
| Thin Film Materials | It can deposit a variety of thin films such as silicon nitride, silicon dioxide, and aluminum nitride, making it versatile for different applications. |
| User-Friendly Design | The reactor features an intuitive computer interface and offers both automated and manual operation options for user convenience. |
| Precise Control | It provides accurate control over temperature, gas flow, and deposition rates, making it ideal for a wide range of applications in the semiconductor, optoelectronic, and photomechanical industries. |
| Robust Mechanical Design | Built with durable materials and a solid mechanical design, the reactor ensures safe and reliable operation. |
| Modelo / SKU | 0041-75950 |
Envio em 24 horas | Garantia de 12 meses | Entrega mundial
0041-75950 da AMAT para manutenção industrial no Brasil
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Como validar a compatibilidade?
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